मोनो-क्रिस्टलीय वेफर उत्पादन प्रवाह में कटिंग, सफाई और छँटाई प्रक्रियाएँ शामिल हैं। वर्तमान में, PV के लिए दुनिया भर में Cz-Si क्रिस्टल उत्पादन क्षमता का 80% से अधिक p टाइप को समर्पित हैe.
1 भौतिक विशेषताएं
संपत्ति | विनिर्देश | निरीक्षण विधि |
विकास विधि | सीजेड | |
स्फटिकता | monocrystalline | तरजीही नक़्क़ाशी तकनीक(एएसटीएम F47-88) |
चालकता प्रकार | पी-प्रकार | नैप्सन ईसी-८०टीपीएन P/N |
दोपंत | बोरॉन, गैलियम | - |
ऑक्सीजन सांद्रता [Oi] | ≦9E+17 at/cm3 | एफटीआईआर (एएसटीएम एफ121-83) |
कार्बन सांद्रता [Cs] | ≦5E+16 at/cm3 | एफटीआईआर (एएसटीएम एफ123-91) |
खोदना गड्ढे घनत्व (अव्यवस्था घनत्व) | ≦500 सेमी-3 | तरजीही नक़्क़ाशी तकनीक(एएसटीएम F47-88) |
सतह उन्मुखीकरण | [जीजी] लेफ्टिनेंट; १०० [जीजी] जीटी; ± ३ डिग्री | एक्स-रे विवर्तन विधि (एएसटीएम F26-1987) |
छद्म वर्गाकार भुजाओं का उन्मुखीकरण | [जीजी] लेफ्टिनेंट;010 [जीजी] जीटी;, [जीजी] लेफ्टिनेंट;001 [जीजी] जीटी;±3° | एक्स-रे विवर्तन विधि (एएसटीएम F26-1987) |
2 विद्युत गुण
संपत्ति | विनिर्देश | निरीक्षण विधि |
प्रतिरोधकता | 1-3 cm (एनील के बाद) | वेफर निरीक्षण प्रणाली |
एमसीएलटी (अल्पसंख्यक वाहक जीवनकाल) | ≧20 μs | सिंटन क्यूएसएसपीसी |
3 ज्यामिति
संपत्ति | विनिर्देश | निरीक्षण विधि |
ज्यामिति | छद्म वर्ग | |
बेवल किनारे का आकार | गोल | |
वेफर आकार (साइड की लंबाई * साइड की लंबाई * व्यास | एम0: 156*156*ϕ210 मिमी एम 1: 156.75 * 156.75 * 205 मिमी एम 2: 156.75 * 156.75 * ϕ210 मिमी | वेफर निरीक्षण प्रणाली |
आसन्न भुजाओं के बीच का कोण | 90±3° | वेफर निरीक्षण प्रणाली |
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